问个光刻胶的问题 - Chemistry版

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Chemistry版 - 问个光刻胶的问题

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c**y
发帖数: 99

【以下文字转载自 EE 讨论区】
发信人: ccyy (ccyy), 信区: EE
标题: 问个光刻胶的问题
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Oct 30 17:34:07 2009, 美东)
做完光刻后，还想保留光刻胶作为保护层
但是后面还有一步需要用到acetone
有无可能在高温(~150 centigrade)下 bake 久一点
或者 over exposed 想保留的光刻胶
使得光刻胶 cross-linked而不溶于aceton
不知道那位大侠有过类似的经验
这样做可不可行？

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