c**y
发帖数: 99 | 1 【 以下文字转载自 EE 讨论区 】
发信人: ccyy (ccyy), 信区: EE
标 题: 问个光刻胶的问题
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Oct 30 17:34:07 2009, 美东)
做完光刻后，还想保留光刻胶作为保护层
但是后面还有一步需要用到acetone
有无可能在高温(~150 centigrade)下 bake 久一点
或者 over exposed 想保留的光刻胶
使得光刻胶 cross-linked而不溶于aceton
不知道那位大侠有过类似的经验
这样做可不可行？ |
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f****e
发帖数: 24964 | 2 euv 能量更大，光刻胶应该比应该普通胶更容易吧
：EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光
：刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。 |
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c**y
发帖数: 99 | 3 做完光刻后，还想保留光刻胶作为保护层
但是后面还有一步需要用到acetone
有无可能在高温(~150 centigrade)下 bake 久一点
或者 over exposed 想保留的光刻胶
使得光刻胶 cross-linked而不溶于aceton
不知道那位大侠有过类似的经验
这样做可不可行？ |
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c******k
发帖数: 1140 | 4 一般光刻胶的最小分辨率就是0.5um.
需要更小的分辨率，光刻胶是做不到了，得用电子束敏感得光刻胶了 |
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发帖数: 1 | 5 EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光
刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。
项目共申请发明专利15项（包括国际专利5项） |
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c******7
发帖数: 109 | 6 刚接手一个新项目，要用到一种主流的高分子光刻胶材料，联系了几家美国厂家，价格
都太贵了，几千美元一公斤，搜索了一下单体价格，很便宜，还不到八十美元。不知道
国内有没有做248的光刻胶厂家？如果你有这方面的信息，请和我联系，谢谢 |
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d*******2
发帖数: 340 | 7 在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm，请问如果需要更小的分辨率得
用别的光刻胶吗？
先谢了！ |
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c******7
发帖数: 109 | 8 刚接手一个新项目，要用到一种主流的高分子光刻胶材料，联系了几家美国厂家，价格
都太贵了，几千美元一公斤，搜索了一下单体价格，很便宜，还不到八十美元。不知道
国内有没有做248的光刻胶厂家？如果你有这方面的信息，请和我联系，谢谢 |
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s***e
发帖数: 7166 | 11 这个要看你用啥子做光刻，而不是光刻胶本身。
optical lithography大概就是亚微米量级而已。电子束可以做到10纳米量级。更小的
尺寸也可以用类似STM的设备加上非线性光学的TRICK做到。 |
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d*******2
发帖数: 340 | 12 在国内，需要少量的5206光刻胶做个工艺，如果效果好的话，再买一整瓶。国内的代理
商说需要2个月时间，而且不能给样品，得直接买整瓶，有点贵。请问这个的兄弟姐妹
能帮忙给点样品吗？先谢了！ |
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t***s
发帖数: 163 | 13 光学LITHOGRAPHY的最小分辨率是 光的波长/(2* 介质的折射率).
用小波长的光源是提高分辨率的关键.跟光刻胶关系不太大吧.
EBL的分辨率是很小. 因为电子波的德波若衣波长短. EBL非常费时. PHOTOLITHOGRAPHY
工业界用的多, EBL研究机构用的多. |
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c****a
发帖数: 204 | 14 也有很小的分辨率的光刻胶，叫深紫外的中了。。。 |
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d*******2
发帖数: 340 | 15 我觉得相同转速下（比如4000转），wafer越大，线速度就越大，因此如果不同尺寸的
wafer要得到相同的光刻胶厚度，大的wafer应该用较低的转速才对。请问是这样的吗？
先谢了！ |
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f***y
发帖数: 4447 | 16 http://mil.news.sina.com.cn/jssd/2018-07-26/doc-ihfvkitw9299332.shtml
荷兰ASML是世界顶尖光刻机的全球唯一生产商。
众所周知，航空发动机和光刻机分别代表了人类科技发展的顶级水平，都可以算得
上是工业皇冠上的夺目的明珠。目前，我国航空发动机已经有了长足的进步，那么，我
国的光刻机发展现状如何？这种誉为新时代“两弹一星”级别的“神器”我国能赶超欧
美吗？特别是最近某科技媒体称，“是什么卡了我们的脖子—— 这些“细节”让中国
难望顶级光刻机项背”，笔者根据公开资料解析我国光刻机最新进展。所谓光刻机，原
理实际上跟照相机差不多，不过它的底片是涂满光敏胶（也叫光刻胶）的硅片。各种电
路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久
的刻在硅片上，这是芯片生产的最关键步骤。 由于光刻机在芯片最后的封装，以及平
板显示器件生产都可以用到，所以这里的光刻机一般特指芯片生产的前道光刻机。
由于前道光刻机技术极端复杂，经过多年竞争，目前由原荷兰飞利浦公司发展而来
的ASML（阿斯麦）公司一家独大，占据大部分... 阅读全帖 |
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发帖数: 1 | 17 中科院、上微自主研制成功新型光刻机 有望局部实现国产化替代
2016-03-28 16:50:04字号：A- A A+来源：观察者网
关键字:光刻机国产光刻机中科院上海微电子光刻工艺
日前，中科院光电技术研究所自主研制成功紫外纳米压印光刻机。与此同时，上海微电
子也发布了平板显示光刻机，产品良率高达95%（原本的良率为70%-80%）的高亮度LED
光刻机，MEMS和功率器件光刻机。虽然媒体仅仅轻描淡写报道，但这些消息却蕴含着不
同寻常的意义。
什么是光刻机？光刻机是芯片生产中最核心的设备，也是大陆芯片生产设备制造的最大
短板。不少网友会将光刻机和刻蚀机搞混，其实，光刻机的工作原理是用光将电路结构
临时“复制”到硅片上，而刻蚀机是按光刻机刻出的电路结构，刻出沟槽的设备，是在
芯片上做减法，与之相应的是做加法（镀膜）。
光刻机用途广泛，有用于生产芯片的前道光刻机，有用于封装的后道光刻机，还有用于
LED制造领域的投影光刻机。前道光刻机就是在芯片生产中将电路图映射到硅片上的光
刻机，后道光刻机也被称为封装光刻机、bumping光刻机，在芯片生产出来后，线路图
是裸露在外面的，还需要用后道光... 阅读全帖 |
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f***y
发帖数: 4447 | 18 http://www.eepw.com.cn/article/201703/345450.htm
SEMICON China 2017开幕日即3月14日，上海微电子装备(集团)股份有限公司(后简称“
SMEE”)宣布，SMEE 与荷兰公司 ASML 签署战略合作备忘录(MoU)，为双方进一步的潜
在合作奠定了基础。
本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/201703/345450.htm
根据这项合作备忘录，ASML 和 SMEE 将探索就 ASML 光刻系统的特定模块或半导
体行业相关产品进行采购的可能性。此次MoU的签署代表 ASML 继日前与上海集成电路
研发中心(ICRD)宣布合作之后，进一步深入参与中国的IC产业的发展。
光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，制造光刻机更被比作是在微观世界里“
造房子”——成像系统由几十个直径为200~300毫米的透镜组成，定位精度都是纳米级
。微米级的瞬时传输控制技术，犹如两架空客以1000/小时公里同步高速运动，在瞬间
对接穿针引线;玻璃镜面加工等精度，误差不会超过0.5毫米。
为了在更小的物理空间集... 阅读全帖 |
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f***y
发帖数: 4447 | 19 2017年6月21日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项(02专项
)实施管理办公室组织专家在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫
外光刻关键技术研究”项目验收会。评审专家组充分肯定了项目取得的一系列成果，一
致同意项目通过验收，认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重
要一步。
极紫外（Extreme Ultraviolet，EUV）光刻是一种采用波长13.5nm极紫外光为工作波长
的投影光刻技术，是传统光刻技术向更短波长的合理延伸。作为下一代光刻技术，被行
业赋予拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻光学技术代表了当前应用光学发展最高水平，
作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，项目指标要求高，技术难度大、瓶颈多，创新性高
，同时国外技术封锁严重。
中科院长春光机所自上世纪九十年代起专注于EUV/X射线成像技术研究，着重开展了EUV
光源、超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究，形成了极紫外光学的应用
技术基础。2002年，研制国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。
2008年国家“极大规模集成电路制造装备及... 阅读全帖 |
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g**1
发帖数: 10330 | 20 科技日报：中科院国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病
高博/科技日报
2018-12-03 07:39
字号
11月29日，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着，就成了谣言—
—《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《
厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》……
笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会，写了报道，还算熟悉，无法苟同一些漫无边
际的瞎扯。
中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光
源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。
先解释下：光刻机不光是制造芯片用。一张平面（不论硅片还是什么材料）想刻出繁复
的图案，都可以用光刻——就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部分。半个多世纪
前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模集成电路——芯片。
为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度，投影
就模糊了。要清晰投影，线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米
的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。
但稳定的、大功率的极紫外光源很难造... 阅读全帖 |
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g**1
发帖数: 10330 | 21 国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病
分享到：
2018-12-03 08:25:08字号：A- A A+来源：科技日报
关键字: 国产22纳米光刻机国产芯片
11月29日，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着，就成了谣言—
—《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《
厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》……
笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会，写了报道，还算熟悉，无法苟同一些漫无边
际的瞎扯。
中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光
源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。
先解释下：光刻机不光是制造芯片用。一张平面（不论硅片还是什么材料）想刻出繁复
的图案，都可以用光刻——就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部分。半个多世纪
前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模集成电路——芯片。
为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度，投影
就模糊了。要清晰投影，线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米
的极紫外光源，好刻10纳... 阅读全帖 |
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发帖数: 1 | 22 芯片是未来众多高技术产业的食粮，芯片设计制造技术成为世界主要大国竞争的最重要
领域之一。而芯片生产设备又为芯片大规模制造提供制造基础，因此更是整个半导体芯
片产业金字塔顶端的尖尖。下面是小编带领大家看一看，数一数，制造一枚合格的芯片
都需要哪些设备？
光刻机
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻
机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻
机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
在高端光刻机上，除了龙头老大ASML，尼康和佳能也曾做过光刻机，而且尼康还曾经得
到过Intel的订单。但是近些年，尼康在ASML面前被打的毫无还手之力，高端光刻机市
场基本被ASML占据。
光刻机工作原理
在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画
着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然
后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗
烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激... 阅读全帖 |
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D*****i
发帖数: 8922 | 23 光刻胶不耐高温，所以产生等离子体的地方，光刻胶就被刻蚀了。人家不就是用等离子
体来刻蚀吗？ |
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f***y
发帖数: 4447 | 24 国家光电实验室首次实现 9nm 线宽光刻
2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了
9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可
以突破国外的专利壁垒，直接达到 EUV 的加工水平。 |
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l*******e
发帖数: 1485 | 25 这个其实跟光源波长有关吧。光源一般也就小到200nm，普通光刻也就刻1微米，EUV刻
到500nm，但用干涉光刻(interference lithography)仍能刻出200nm宽的光栅来。 |
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x******u
发帖数: 15 | 26 请问电子束光刻得光刻胶和显影液得名字是什么呀，越详细越好。
谢谢了。 |
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D*****i
发帖数: 8922 | 27 代替水的液体必须和工艺兼容，也就是不能和光刻胶、金属、硅、SiO2、氮化硅等等材
料发生反应，还要容易清洗，条件太多了，不好找。 |
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a***e
发帖数: 27968 | 28 别想当然，表面波等离子体就是个说法
没啥温度的
光刻胶可不是啥耐高温的东西
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 13 |
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s******r
发帖数: 457 | 30 说的有道理。但是也可以从另一个角度说，因为控制不好immersion的缺陷而不能采用
。Intel用的是没有topcoat的光刻
胶，不知和这个有没有关系。 |
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c******7
发帖数: 109 | 31 国家现在对半导体光刻材料支持力度很大，机会不错。有想法的同学站内联系 |
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b*******t
发帖数: 4756 | 32 https://mp.weixin.qq.com/s/4GxXapP8yivNrqQVTBQ5Iw
今天我们聊聊半导体材料。
半导体这个产业，下游到上游，技术难度和壁垒都非常高，可以说没有容易做的东西。
从芯片设计（英特尔，高通），到芯片制造（台积电，三星，英特尔），到芯片设备（
应用材料，lam research，东京电子，ASML），到半导体材料，全部都很困难，后来者
进入必定是充满艰辛。
在之前的文章里面，已经大概讲了芯片设计，制造，封装，设备等，这篇讲讲半导体材
料。
我们要知道，在半导体的产业链里面，设备和材料被认为是上游。
这两个领域美国和日本是占据优势的。
那么市场空间有多大呢？
根据SEMI（国际半导体产业协会）的统计，2017年全球半导体设备销售额为570亿美元
，而全球半导体材料市场销售额为469亿美元，增长了9.6%。
也就是设备 材料=1039亿美元，这比华为一年的销售额要多一点。
整个半导体2017年总的销售额，如果按照Gartner的数据，是4197亿美元，也就是设备
材料占了整个市场的24.76%，也就是差不多25%的水平。
所以好了，我们要知道一个重点，... 阅读全帖 |
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t*******a
发帖数: 4055 | 33 中国光刻机看见曙光
荷兰ASML是世界顶尖光刻机的全球唯一生产商。
众所周知，航空发动机和光刻机分别代表了人类科技发展的顶级水平，都可以算得上是
工业皇冠上的夺目的明珠。目前，我国航空发动机已经有了长足的进步，那么，我国的
光刻机发展现状如何？这种誉为新时代“两弹一星”级别的“神器”我国能赶超欧美吗
？特别是最近某科技媒体称，“是什么卡了我们的脖子—— 这些“细节”让中国难望
顶级光刻机项背”，笔者根据公开资料解析我国光刻机最新进展。所谓光刻机，原理实
际上跟照相机差不多，不过它的底片是涂满光敏胶（也叫光刻胶）的硅片。各种电路图
案经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久的刻
在硅片上，这是芯片生产的最关键步骤。 由于光刻机在芯片最后的封装，以及平板显
示器件生产都可以用到，所以这里的光刻机一般特指芯片生产的前道光刻机。
由于前道光刻机技术极端复杂，经过多年竞争，目前由原荷兰飞利浦公司发展而来的
ASML（阿斯麦）公司一家独大，占据大部分市场份额，日本的两家光刻机公司（尼康和
佳能）苟延残喘，基本上已退出光刻机市场 ，就连科技最发达的美国... 阅读全帖 |
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c****x
发帖数: 6601 | 34 https://user.guancha.cn/main/content?id=35310&page=0
不久前，观察者网科工力量专栏采访了中微半导体董事长尹志尧博士，并刊登了经尹博
士审定的采访全文（点击阅读）。中微半导体是国家集成电路产业基金（大基金）成立
后投资的第一家公司，也是美国《确保美国在半导体产业的长期领导地位》报告中唯一
提到名字的中国公司。2015年，因中微半导体开发的国产等离子体刻蚀设备达到世界先
进水平，美国商务部解除了这类设备持续几十年的出口管制。
当天，尹志尧博士还为我们做了长达近2小时的科普，讲解的内容涉及半导体微观加工
设备、数码产业格局、中国制造业升级战略等许多方面。限于篇幅，此前没有在观察者
网报道中全文刊出。现经仔细编校，并由尹博士本人修改审定，我们在微信公众号刊出
这些内容（全文约15000字），以飨读者。
我下面解释一下，我们做半导体芯片设备也好，还有其他泛半导体微观加工设备也好，
在这个整个产业链处在一个什么位置，解释一下。
我们做的是大型真空的微观加工设备，它是做半导体芯片或其他微观器件加工的。就是
现在大家看到的集成电路，大面积显示屏，太阳... 阅读全帖 |
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c****x
发帖数: 6601 | 35 【 以下文字转载自 Military 讨论区 】
发信人: cccpwx (flg政庇小学生), 信区: Military
标 题: 规模大赚钱就是好公司？政府要推动最基础的大国重器
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Aug 31 01:09:58 2018, 美东)
https://user.guancha.cn/main/content?id=35310&page=0
不久前，观察者网科工力量专栏采访了中微半导体董事长尹志尧博士，并刊登了经尹博
士审定的采访全文（点击阅读）。中微半导体是国家集成电路产业基金（大基金）成立
后投资的第一家公司，也是美国《确保美国在半导体产业的长期领导地位》报告中唯一
提到名字的中国公司。2015年，因中微半导体开发的国产等离子体刻蚀设备达到世界先
进水平，美国商务部解除了这类设备持续几十年的出口管制。
当天，尹志尧博士还为我们做了长达近2小时的科普，讲解的内容涉及半导体微观加工
设备、数码产业格局、中国制造业升级战略等许多方面。限于篇幅，此前没有在观察者
网报道中全文刊出。现经仔细编校，并由尹博士本人修改审定，我们在微信公众号刊出
这些内容（... 阅读全帖 |
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c*********d
发帖数: 9770 | 36 裸嘢李 裸嘢李 微信号 gzh54446700
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传播法律常识，解答法律咨询。
图文皆源自网络，图片上的水印@裸嘢李是微信公众号系统自动添加，并不代表@裸嘢李
对图文拥有版权。特此申明。
本帖转发了三个帖子：
之一：刘亚东：除了那些核心技术，我们还缺什么？
之二：光刻机、操作系统、芯片、PA等35项卡脖子技术，只是冰山一角！震撼！
之三：中国包揽德国抄袭奖前10名！还得了特设的“鬣狗奖”
无论你认为你的国或者我的国厉害了还是利害了，都值得好好读读冷静思考思考。
@裸嘢李
之一：刘亚东：除了那些核心技术，我们还缺什么？
6月21日下午，“是什么卡了我们的脖子 • 亟待攻克的核心技术” 科学传播沙
龙在中国科技会堂召开。科技日报总编辑刘亚东做了主题演讲，在详细介绍《科技日报
》“亟待攻克的核心技术”系列报道的出台背景和意义之外，还详细说明了在那些核心
技术之外，我们还缺的到底是什么？全文如下。
《科技日报》总编辑刘亚东
各位嘉宾、各位朋友、各位同事，下午好！
2018年4月16日，中兴事件的新闻在网上爆棚。三天以后，4月19日，《科技日报》一版
头条强势推出新专栏“亟待... 阅读全帖 |
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发帖数: 1 | 37 普通人看到中国IT业繁荣，认为技术差距不大，实则不然。3家美国公司垄断手机和个
人电脑的操作系统。数据显示，2017年安卓系统市场占有率达85.9%，苹果IOS为14%。
其他系统仅有0.1%。这0.1%，基本也是美国的微软的Windows和黑莓。没有谷歌铺路，
智能手机不会如此普及，而中国手机厂商免费利用安卓的代价，就是随时可能被“断粮
”。 今天得空，把《科技日报》报道过的总共35项“卡脖子”技术疏理成一个简版，
分享给诸位。
想说明的只有一句话：这只是冰山一角！
1、光刻机
《这些“细节”让中国难望顶级光刻机项背》（4月19日）
制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限。在“十二五”科技成就展览上，中
国生产的最好的光刻机，加工精度是90纳米。这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准
。而国外已经做到了十几纳米。
光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差
在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。在工作时，相当于两
架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上
刻字，不能... 阅读全帖 |
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发帖数: 1 | 38 ASML光刻机欠火候：三星/台积电/GF 7nm EUV异常难产
不久前，高通宣布未来集成5G基带的骁龙芯片将基于三星的7nm制造，具体来说是7nm
LPP，使用EUV（极紫外）技术。
紧接着，三星就在华诚破土动工了一座新的7nm EUV工艺制造工厂，2020年之前要投产。
看似风风火火，但其实7nm EUV依然面临着不少技术难题。
据EETimes披露，在最近的芯片制造商会议上，有厂商就做了犀利地说明。
比如，GlobalFoundries研究副总裁George Gomba就表示，唯一有能力做250瓦EUV光刻
机的ASML（阿斯麦）提供的现款产品NXE-3400仍不能满足标准，他们建议供应商好好检
查EUV光罩系统，以及改进光刻胶。
这里对光刻做一下简单科普。
光刻就是将构成芯片的图案蚀刻到硅晶圆上过程。晶圆上涂有称为光刻胶的光敏材料，
然后将该晶圆暴露在通过掩模照射的明亮光线下。掩模掩盖的区域将保留其光刻胶层，
而直接暴露于紫外线的那些会脱落。
接着使用等离子体或酸蚀刻晶片（浸式）。在蚀刻过程中，被光刻胶中覆盖的晶片部分
得到保护，可保留氧化硅; 其他被蚀刻掉。
显然，光线波长小... 阅读全帖 |
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发帖数: 1 | 39 来源: 中新网/日期: 2018-05-08
“PM2.5，是大家很熟悉的微小颗粒物，直径小于或等于2.5微米。但我们研制这种制造
芯片的关键材料，在过程中如果进入了哪怕PM1.0的粉尘，这个材料就是废品，就不能
被应用到芯片当中。”
唐一林简单一句话，道出了集“超纯净”与“超均匀”于一体的制芯新材料——“光刻
胶用线性酚醛树脂”对环境的苛刻要求。5月初，这位亚洲最大酚醛树脂生产基地的掌
舵者告诉科技日报记者，历时26年，用于芯片制作的国产高端电子树脂研制成功。专家
认为，这种高端材料打破了美日等国垄断，可大大加速我国自主芯片的研制进度。
科技日报记者了解到，“光刻胶用线性酚醛树脂”的国产化成功，已经让数家光刻胶企
业(“芯片”上游企业)慕名而来，采购这种“制芯”用的高端材料。
“以前并没有觉得电子树脂的市场可以如此之大，主要将其应用在印制电路板领域。但
随着中兴事件发酵，以及自主芯片热的再度升温，让我们看到中国发展高端电子树脂的
迫切性。”项目研制者之一、圣泉酚醛树脂研究所所长李枝芳告诉科技日报记者，“‘
中国芯’难产的背后，也暴露出中国高端材料长期依赖进口，以致于被人卡脖子的窘境
... 阅读全帖 |
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x*******6
发帖数: 994 | 40 “PM2.5，是大家很熟悉的微小颗粒物，直径小于或等于2.5微米。但我们研制这种制造
芯片的关键材料，在过程中如果进入了哪怕PM1.0的粉尘，这个材料就是废品，就不能
被应用到芯片当中。”
唐一林简单一句话，道出了集“超纯净”与“超均匀”于一体的制芯新材料——“光刻
胶用线性酚醛树脂”对环境的苛刻要求。5月初，这位亚洲最大酚醛树脂生产基地的掌
舵者告诉科技日报记者，历时26年，用于芯片制作的国产高端电子树脂研制成功。专家
认为，这种高端材料打破了美日等国垄断，可大大加速我国自主芯片的研制进度。
科技日报记者了解到，“光刻胶用线性酚醛树脂”的国产化成功，已经让数家光刻胶企
业(“芯片”上游企业)慕名而来，采购这种“制芯”用的高端材料。
“以前并没有觉得电子树脂的市场可以如此之大，主要将其应用在印制电路板领域。但
随着中兴事件发酵，以及自主芯片热的再度升温，让我们看到中国发展高端电子树脂的
迫切性。”项目研制者之一、圣泉酚醛树脂研究所所长李枝芳告诉科技日报记者，“‘
中国芯’难产的背后，也暴露出中国高端材料长期依赖进口，以致于被人卡脖子的窘境
。”
作为芯片的核心材料，光刻胶及光刻胶用树脂... 阅读全帖 |
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w********2
发帖数: 632 | 41 国产光刻机的发展
1、历史
我国光刻机设备的研制起步也不晚。从1970年代开始就先后有清华大学精密仪器系、中
科学院光电技术研究所、中电科45所投入研制。
清华大学精密仪器系是我国历史最悠久的工程学科院系之一，建有“精密测试技术与仪
器”国家重点实验室。1970年代，研制开发了分步重复自动照相机、图形发生器、光刻
机、电子束曝光机工件台等半导体设备，其中“分步相机”应用于全国100多个厂家，
受到好评。
中科学院光电技术研究所是中国光刻设备的最早研制机构之一，在1980年研制出首台光
刻机，分辨率3μm，属于接触/接近式；1991年研制出分辨率1um同步辐射 X-射线光刻
机；1993年研制出g线1.5um的分布重复投影光刻机，产率达32wph；1997年自主研发完
全“0.8-1um分步重复投影光刻机”。
中电科45所也是我国最早从事光刻机研发的骨干单位之一。当1978年世界上第一台量产
型g线分步投影光刻机在美国问世后，45所就投入了分步投影光刻机的研制工作，1985
年研制我国同类型第一台 g线1.5um分步投影光刻机，在1994年推出分辨率达0.8um的分
步投影光刻机，200... 阅读全帖 |
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w********2
发帖数: 632 | 42 上海微装成立于2002年，其生产的光刻机包括晶圆制造、IC封装、面板、LED等，其中
封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步。
然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装目前可生产加工90nm工
艺制程的光刻机，这是目前国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm工艺制程 EUV
光刻机，两者差距不得不说非常大。
事实上，12年前国家就已意识到发展光刻机的必要性。2006年国务院发布《国家中长期
科学和技术发展规划纲要（2006-2020年）》确定发展16个重大专项，其中“极大规模
集成电路制造装备及成套工艺”被列为“02专项”，该专项于2008年国务院批准实施，
并将EUV光刻技术列为“32-22nm装备技术前瞻性研究”重要攻关任务。
在这之后，国内光刻机的研究发展大多由“02专项”资金支持，目前除了上海微装已生
产出90nm光刻机外，2016年初光刻机核心子系统双工件台系统样机研发项目通过内部验
收，为我国自主研发65nm至28nm双工件干台式及浸没式光刻机奠定了基础。
此外，由长春光机所作为牵头单位承担起了“极紫外光刻关键技术研究”项目研究... 阅读全帖 |
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D*********0
发帖数: 750 | 43 我很羡慕你。。。。。。。我的老板就是阿三，我每天过郁闷的日子。去公司提心掉胆
的。。。说个例子：前几天阿三要我准备样品去刻蚀，我主张留着光刻胶。阿三说去掉
光刻胶，结果阿三刻蚀回来，我一看，妈的把底下的氮化硅都刻蚀掉了，4个样品废了3
（阿三居然没有注意到）。后来阿三居然问我为什么不留光刻胶，shitttttttttttt.幸
好我把原来的步骤写下来，给阿三看，阿三脸不好看。。。。。。。。。。。。。丫的
给我穿了很多小鞋。。。。。。。。。。几天一整我。。。。。。。。。。。。。。。
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发帖数: 1 | 44 作为上海市最大的集成电路产业投资项目，华力12英寸先进生产线总投资387亿元人民
币，计划于2022年底建成月产能4万片的12英寸集成电路芯片生产线。
昨天，在浦东新区康桥工业园南区，由华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公
司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目（以下简称“华虹六厂”）实现首台工艺设
备——光刻机搬入，标志着华虹六厂从基建阶段进入工艺设备安装调试阶段。
在上海就能生产28纳米芯片
华力12英寸集成电路项目搬入首台设备。文汇报 图
作为上海市最大的集成电路产业投资项目，华力12英寸先进生产线总投资387亿元
人民币，计划于2022年底建成月产能4万片的12英寸集成电路芯片生产线。
集成电路技术进步，一般用芯片集成度和微细加工精度两个指标来衡量。芯片集成
度，指单一芯片中所含有的晶体管数量。晶圆尺寸从3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8
英寸已发展到目前的12英寸，并且18英寸也开始处于研发阶段。从目前全球晶圆厂产能
情况来看，12英寸生产线主要生产高性能产品，工艺技术更加先进，是目前的主流建设
方向。行业知名咨询机构IC Insights（集成电路观察）分析认为，截至2... 阅读全帖 |
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x**m
发帖数: 637 | 45 在中国和“外国”这两国的较量中，究竟哪一国更占上风？有说中国吊打外国，有
说外国轻松把中国摁在地上摩擦，双方都列举了林林总总的例子，整得我们吃瓜群众一
脸懵逼。
中间派肯定说两国各有利弊，但这结论虽然正确却没啥营养。想要在这个话题上显
得有见识，得先搞明白啥是技术？
01.核心技术，到底是个啥？
把技术分分类，第一类姑且叫“可山寨技术”，或者叫“纯烧钱技术”，有人喜欢
往左边烧，有人喜欢往右边烧，于是就烧出了不同的应用技术。
这本质上是用旧技术整合出新玩意儿，比如，美帝登月的土星五号，中国的跨海大
桥，小胡子的鼠式坦克，甚至包括长城和埃及金字塔。
打个比方，这有点像吉尼斯纪录：最长的头发，最长的指甲，等等……这类东西，
只要钱到位，搁谁都烧的出，关键看有没有需求，所以这些也可以叫应用技术。
比如上图这种架桥机，几个工业大国都能搞，但搞出来只能当玩具，只有中国搞出
来才赚钱。
我国在经济发展起来之后，迸发出海量需求，推动各种烧钱的应用技术井喷，赚了
钱又可以孜孜不倦地完善各种细节，于是，可以不吹牛的说，中国的应用技术已经和整
个外国平起平坐。
第二类技术暂且叫“不可山寨技术”，或者叫“烧... 阅读全帖 |
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c****x
发帖数: 6601 | 46 韩媒：想不到G20一结束，日本就对我们拔刀
G20大阪峰会期间，安倍晋三与文在寅握手8秒后各自离开。（韩国《中央日报》）
海外网7月1日电 今天（1日），日本政府宣布将从4日起，对韩国限制出口3种半
导体材料。虽然日方没有明说原因，仅提及“日韩信任关系受到严重损害”，但多家韩
媒一致认为，此举是为了报复韩国不断向日本讨要二战时韩国劳工的赔偿。
当天，韩国《中央日报》更是直接批评：G20刚刚结束，日本就对韩国“拔刀”了。
按照日本经济产业省1日发布的公告，日本修改了对韩国的出口管理条例，自7月4日起
，开始限制向韩国出口“氟聚酰亚胺”、“光刻胶”和“高纯度氟化氢”这3种半导体
材料。而这些都是制作电视、智能手机部件的材料。
此外，日本还考虑修改规定，把韩国从“白名单”国家排除在外，以使韩国无法享受尖
端技术出口免申请的优惠。相关程序于1日启动。
制裁措施会对韩国进口产生什么影响？《中央日报》援引日本时事社消息称，这意味着
日本供应商今后向韩方出口相关材料时，每一笔合同都需要经过日本政府批准。
日本《读卖新闻》认为，由于日本政府基本不会批准申请，日本实际上是禁止向韩国出
口半导体... 阅读全帖 |
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w********r
发帖数: 3183 | 47 日韩大战 亚洲面临大变 韩国将被淘汰出发达国
由于中美贸易战的原因，韩国经济今年出现了大问题，第一季度韩国经济增长率只有1.
8%，5月时出口按年下跌9.4%，对中国猛跌20%，韩国6月出口同比减少13.5%，为441.8
亿美元，减幅创3年5个月新高，其中半导体出口减少25.5%，韩国ICT连续8个月下滑。
在7月4日，三星电子发布了2019年第二季度业绩展望，预计受存储芯片价格和需求持续
疲软拖累（智能手机饱和），公司本季度利润同比下降一半以上。作为全球最大的智能
手机制造商和存储芯片供应商，三星第二季度运营利润预计为6.5万亿韩元（55亿美元
），较上年同期下降了56%！
半导体行业是韩国核心产业，对韩国经济简直是生死攸关，韩国半导体占该国出口比重
的20.8%，占GDP比重的6.7%，韩国《每日经济》6月17日报道，韩国经济增长对半导体
产业的依赖越来越严重，2018年韩国经济增长率为2.7%，如果扣除半导体增长因素，增
长率为1.4%，也就是说韩国经济增长一半拉动靠半导体行业。
2018年10月DRAM价格暴跌，第四季度时半导体行业需求低于预期量，眼看半导体行业整
体不振，现... 阅读全帖 |
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g******s
发帖数: 733 | 48 MEMS的论文，好像中国只有美国的1/3.
貌似中国大陆（不含香港台湾）没有一个地方可以买到Shipley光刻胶，至少我轻易找
到了香港台湾卖Shipley光刻胶的地方，但是没有找到中国大陆的。
欢迎光临我的外汇网站：
http://www.fx-trade.co.uk |
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c**y
发帖数: 99 | 49 【 以下文字转载自 EE 讨论区 】
发信人: ccyy (ccyy), 信区: EE
标 题: 用双层胶和单层胶 Liftoff metal 的区别
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Aug 13 14:26:42 2010, 美东)
用双层胶来 lift off metal比较容易，但是最后形成的metal stripe会有undercut，
然后第二步光刻又会在这个 metal 的 undercut 形成的 photo resist residual 很难
去掉。
想用单层胶来做 lift off, 不知道会不会解决 metal undercut 这个问题？
Thanks! |
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z**j
发帖数: 87 | 50 光刻机刻的只是涂在晶圆上的光刻胶，真正刻晶圆的是蚀刻机。按照视频的意思，如果
光刻能刻出5纳米，那么他们的蚀刻机就能刻出5纳米。 |
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