d*******2
发帖数: 340 | 1 在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm,http://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist
请问如果需要更小的分辨率得用别的光刻胶吗？
先谢了！ |
s******x
发帖数: 15232 | 2 EBL
【在 d*******2 的大作中提到】
: 在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm,http://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist
: 请问如果需要更小的分辨率得用别的光刻胶吗？
: 先谢了！
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t***s
发帖数: 163 | 3 光学LITHOGRAPHY的最小分辨率是 光的波长/(2* 介质的折射率).
用小波长的光源是提高分辨率的关键.跟光刻胶关系不太大吧.
EBL的分辨率是很小. 因为电子波的德波若衣波长短. EBL非常费时. PHOTOLITHOGRAPHY
工业界用的多, EBL研究机构用的多.
【在 d*******2 的大作中提到】
: 在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm,http://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist
: 请问如果需要更小的分辨率得用别的光刻胶吗？
: 先谢了！
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c****a
发帖数: 204 | |
m******y
发帖数: 2207 | 5 I think photo resist also matters. You rely on its properties during lift
off.
PHOTOLITHOGRAPHY
【在 t***s 的大作中提到】
: 光学LITHOGRAPHY的最小分辨率是 光的波长/(2* 介质的折射率).
: 用小波长的光源是提高分辨率的关键.跟光刻胶关系不太大吧.
: EBL的分辨率是很小. 因为电子波的德波若衣波长短. EBL非常费时. PHOTOLITHOGRAPHY
: 工业界用的多, EBL研究机构用的多.
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d***a
发帖数: 128 | 6 Each phororesist has their own application range for laser. The third floor
is right. It depend on your set-up, laser source, even has the photoresist
as 248, 193nm laser, commerical avaible |
dn
发帖数: 43 | 7 45nm with DUV 193nm source
Otherwise use EBL, or nano-imprinting |
s*********j
发帖数: 13 | 8 EBL
【在 d*******2 的大作中提到】
: 在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm,http://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist
: 请问如果需要更小的分辨率得用别的光刻胶吗？
: 先谢了！
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