t******e
发帖数: 2504 | 1 扯淡，日本的nikon, 虽然比不上ASML,但比上海的那个SMEE强太多了， 三星，intel，
GF， 还在用nikon的光刻机。
看了看nikon的产品介绍，居然有号称做5nm node的型号，NSR-S635E， 当然，一般的
用户反映是，比起ASML,日本货不太好用，毛病多，但从这个技术级别来说，也比那个
SMEE的90nm要领先太多了。
这一行就是赢者通吃， 第2名比后面的领先多也没什么用，市场上就认冠军，除非是中
低档要求的才考虑买nikon的。 |
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t******e
发帖数: 2504 | 2 又来了扯什么鸟光刻机, 说了多少遍，是研发体系组织出了问题， 不是什么机器问题。
那个EUV是做7nm及以下尺寸的，中芯定货是为了以后的开发。 中芯已经在手3年多的
AMSML1980Di型号， 已经够先进的了，理论上做10nm足够，台积电拿它可以做7nm.
要是中芯自己争气，至少现在10nm应该问题不大。 |
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n****4
发帖数: 12553 | 4 从爱迪生时代开始，美帝就是一个创新国家。它的创新，就深度和广度来说，无人可比
，基本上定义了历史的方向，所以我说美帝制定了现代社会的典章制度。美帝创新之后
，别人跟进，由于种种原因，跟进的人在商业上有可能战胜美帝。比如你说的光刻机。
更明显的是台积电。就水平，服务和价格来说，台积电领先于三星，更大大地领先美帝
的全球foundry。这些都是商业上的胜利，但根本的创新来自于美帝。从另一方面来看
，没有了创新，或者创新能力被削弱，美帝的全球领导地位也就被削弱了。 |
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w********2
发帖数: 632 | 5 上海imee 90nm 光刻机关键部件例如镜头都是国产的，还是进口的？
藏] |
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t******e
发帖数: 2504 | 7 少见多怪， 光刻机的下游是逻辑芯片和存储芯片制造商这2块，逻辑芯片制造，美国有
Intel和GF，存储芯片制造商有MU,WD 和intel. |
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发帖数: 1 | 8 你说这没有用
没人要你的你就得关门
: 少见多怪， 光刻机的下游是逻辑芯片和存储芯片制造商这2块，逻辑芯片制造，
美国有
: Intel和GF，存储芯片制造商有MU,WD 和intel.
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t******e
发帖数: 2504 | 9 中国进的，大都是韩台货，台货，主要是代工美国牌子，但那些与美国本土制造没什么
关系，也就是说，与需求光刻机的美国制造商没啥关系。
: 所以美帝半导体对我憋并不重要？
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发帖数: 1 | 10 日经新闻11月6日报道，荷兰半导体设备供应商阿斯麦尔（ASML）供应极紫外光（EUV）
光刻机给中芯国际的计划已经中止，多位ASML供应商关系人士指出，ASML是为了避免因
供应最先进的设备给中国，担心刺激到美国，因此决定暂时中止原定于今年交货的EUV
极紫外光刻机的交付。 |
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s***o
发帖数: 1234 | 11 耗子看得远，这不打入塞毛学习先进光刻机技术去了，等下载的差不多了就可以报效他
真正的祖国了。 |
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k******r
发帖数: 2300 | 12 耗子的强项是碰瓷 搞什么光刻机 这不是埋没人才吗 |
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s***o
发帖数: 1234 | 13 中国买光刻机是要压制自己发展？
所以欧洲一直想压制中国发展，美国拦着不让？
你这逻辑有点乱哈。 |
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s***o
发帖数: 1234 | 14 这倒是解释得通。那国内是那个卖国贼主导进口光刻机这事？为什么美国要阻止欧洲阴
谋得逞？
阴谋源源不断，东方开个头怎么就不说了？
: 卖给中国占领中国的市场，分流资金。中国自己的研发资金是一。
: 其二，出来的东西和荷兰的相比肯定不如，怎么收回资金再发展？
: 这个道理都不懂，还点评东方的东西。
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s********i
发帖数: 17328 | 15 啥意思，你不买光刻机，就活不下去了？那你叽歪个屁啊？
人家赏你口饭吃让你不饿死，你还骂人家打击你种粮积极性？傻逼不傻逼啊！
★ 发自iPhone App: ChinaWeb 1.1.5 |
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q****5
发帖数: 1660 | 16 东方：欧盟犹豫的原因是，不清楚中国光刻机的实际进展，如果，里突破还远，他就不
会犹豫了。
目前，中国14纳米已经量产了，万一，中国自己的光刻机，已经突破，但是性价比不如
荷兰。
那么，如果他禁运了，中国的投放到市场，他可能就危险了 |
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发帖数: 1 | 17 东方这是什么样的sb？
他不是说卖光刻机是为了分流研发资金么？
现在如果快突破了，分流不了研发资金了，他还卖个什么劲？
东方到底想清楚荷兰为什么不卖了么？还是故意想不通以便给自己圆谎？ |
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发帖数: 1 | 18 尼康以前还能跟asml抗一抗，但是自从asml孤注一掷研发出大杀器euv光刻机，尼康彻
底没法玩了，国内更不用提了，至少差20年。 |
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t******e
发帖数: 2504 | 20 得，小日本以前还是很厉害的，在光刻机市场上，曾经日本双雄占了大头。
现在不行了，不是不想搞好，而是技不如人。 小日本企业的终身雇佣制度按年份晋级
的， 是成也萧何败也萧何，以前靠雇员的忠心和苦干而成功，现在是因为其按资排辈
弊端导致竞争力低下而失败。 |
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发帖数: 1 | 21 光刻机市场，不是一个小市场。
台湾南韩就要30台EUV，还有新加坡/欧洲的订货。
随着台积电把14nm以上的芯片业务放弃，全部转向7nm以下的芯片制造，EUV订货将出现
爆发。
随着自动驾驶进入潮流，5nm芯片的需求可能超过手机芯片的需求。
昨天看了一个美国F-35战斗机的科教片，这种战斗机上机载计算机运行速度达到每秒
4000亿次，汽车自动驾驶的运算能力不会低于这个数值，所以5nm以下芯片需求巨大。
台。 |
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发帖数: 1 | 22 张横手提扑刀：客官要吃扳刀面还是馄饨？
大陆警告荷兰卖不卖光刻机將成兩国关系风向标！
中共驻荷兰大使徐宏说：ASML产品出口中國是中荷科技領域的合作，河南会作何決定是
一個风向标。
大陆芯片制造厂相当长的时间內將只能停留在12或14纳米制造。
大陆ASML全球营收不及台湾的54%、美國的26%和韓國的11%。 |
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d******y
发帖数: 2787 | 23 光刻机一亿人民币能搞定吗？美元吧？
楼猪智商堪比包叔 |
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发帖数: 1 | 24 光刻机没啥核心机密，是个系统工程的问题，牵涉很多领域集成。拿给你让你拆了，图
纸都给你，你也一下子做不出来。这和合成药物或者可口可乐不一样。 |
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c*****a
发帖数: 1728 | 25 你这不是扯淡吗？土共许可卖口罩，河南许可卖光刻机。扯平。 |
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发帖数: 1 | 27 原来中芯国际的光刻机也是从ASML进口的。
如同中国高铁的轮对，制动，轴承都是进口的一样。 |
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发帖数: 1 | 28 美国国会的确没有对华禁运光刻机。
中芯现在就有一台最新光刻机。 |
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c*********d
发帖数: 9770 | 29 【 以下文字转载自 Military 讨论区 】
发信人: divuhr (fasdf), 信区: Military
标 题: Re: Re:解禁！ASML的EUV光刻机终于要卖给中国了！
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Oct 6 11:42:04 2017, 美东)
老子用激光把你妈逼烧烂了。 |
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f***y
发帖数: 4447 | 30 http://mil.news.sina.com.cn/jssd/2018-07-26/doc-ihfvkitw9299332.shtml
荷兰ASML是世界顶尖光刻机的全球唯一生产商。
众所周知，航空发动机和光刻机分别代表了人类科技发展的顶级水平，都可以算得
上是工业皇冠上的夺目的明珠。目前，我国航空发动机已经有了长足的进步，那么，我
国的光刻机发展现状如何？这种誉为新时代“两弹一星”级别的“神器”我国能赶超欧
美吗？特别是最近某科技媒体称，“是什么卡了我们的脖子—— 这些“细节”让中国
难望顶级光刻机项背”，笔者根据公开资料解析我国光刻机最新进展。所谓光刻机，原
理实际上跟照相机差不多，不过它的底片是涂满光敏胶（也叫光刻胶）的硅片。各种电
路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久
的刻在硅片上，这是芯片生产的最关键步骤。 由于光刻机在芯片最后的封装，以及平
板显示器件生产都可以用到，所以这里的光刻机一般特指芯片生产的前道光刻机。
由于前道光刻机技术极端复杂，经过多年竞争，目前由原荷兰飞利浦公司发展而来
的ASML（阿斯麦）公司一家独大，占据大部分... 阅读全帖 |
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f***y
发帖数: 4447 | 31 2017年6月21日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项(02专项
)实施管理办公室组织专家在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫
外光刻关键技术研究”项目验收会。评审专家组充分肯定了项目取得的一系列成果，一
致同意项目通过验收，认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重
要一步。
极紫外（Extreme Ultraviolet，EUV）光刻是一种采用波长13.5nm极紫外光为工作波长
的投影光刻技术，是传统光刻技术向更短波长的合理延伸。作为下一代光刻技术，被行
业赋予拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻光学技术代表了当前应用光学发展最高水平，
作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，项目指标要求高，技术难度大、瓶颈多，创新性高
，同时国外技术封锁严重。
中科院长春光机所自上世纪九十年代起专注于EUV/X射线成像技术研究，着重开展了EUV
光源、超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究，形成了极紫外光学的应用
技术基础。2002年，研制国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。
2008年国家“极大规模集成电路制造装备及... 阅读全帖 |
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f***y
发帖数: 4447 | 32 http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2018/11/420549.shtm
新华社成都11月29日电（记者董瑞丰、吴晓颖）国家重大科研装备研制项目“超分辨光
刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力
达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波
长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立
了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。
光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术
，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯
片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响，分辨力进一步提高
受到很大限制。
为获得更高分辨力，传统上采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光
刻机，但技术难度极高，装备成本也极高。
项目副总设计师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面... 阅读全帖 |
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发帖数: 1 | 33 半导体制造工艺进入10nm之后，难度越来越大，Intel为此多次调整了产品策略，10nm
工艺的产品推迟到今年底，以致于很多人认为摩尔定律将死。推动科技进步的半导体技
术真的会停滞不前吗？这也不太可能，7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺，研发EUV
光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年，部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺
路线图了。
此前的报道中我们也解释了半导体芯片制造过程中，光刻是非常关键的一步，决定了芯
片的技术水平。目前使用的是沉浸式光刻工艺，未来则是EUV（即紫外光刻）工艺。不
过EUV工艺研发实在太难了，早在2006年业界就开始联合研发EUV工艺，直到10年后的今
天，EUV光刻机才开始小批量生产，荷兰ASML公司日前在财报中提到去年底他们售出6台
EUV光刻机，总数达到了18台，总价值超过20亿欧元。
今年半导体公司将升级到10nm节点，不过还是用不上EUV工艺，ASML表示在2018年底到
2019年初的7nm工艺节点上，EUV工艺才会正式启用，那时候传统的沉浸式光刻工艺也会
遭遇极限。
现在半导体公司提到的新一代制程工艺除了7nm之外，还有5... 阅读全帖 |
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f***y
发帖数: 4447 | 34 2017年6月6日，在“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项（
以下简称“集成电路装备专项”）支持下，华卓精科亦庄园区暨光刻机工件台产业化基
地举行奠基仪式。该产业化基地2018年建成后，将实现我国自主研发的被誉为“超精密
制造皇冠明珠”的光刻机工件台的批量生产，助力我国集成电路制造研发生产再上新台
阶。
华卓精科亦庄园区暨光刻机工件台产业化基地按照集成电路装备专项对光刻机及其
零部件产业化的总体要求，由北京华卓精科科技股份有限公司投资建设。该项目主要围
绕光刻机工件台系统研发和产业化，打造从光刻机工件台的研发生产到相关超精密运动
系统提升电路制造装备及其核心零部件的研发生产的完整产业链，着力打造一个现代化
、标准化、规范化的集成电路制造装备核心零部件的产业基地。
光刻机是制造大规模集成电路的核心装备。为将设计图形制作到硅片上，并在2～3
平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管，光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率
。而光刻机两大核心部件之一的工件台，在高速运动下需达到2nm（相当于头发丝直径
的三万分之一）的运动精度。由此奠定了光刻机超精密工件台技术在超精... 阅读全帖 |
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G**U
发帖数: 5492 | 35 去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，
并宣布将在
2011年下半年发布相关产品。
当然了，新型半导体工艺的实现并不是Intel一家就能做到的，背后默默贡献半导体设
备的功臣却往往
不为人所知。Arete Research LLC公司的分析师Jagadish Iyer在一份报告中指出，
Intel即将
最终决定22nm光刻工艺设备的供应商，最终入围的是荷兰ASML Holding NV和日本尼康
两家。
其实在更早的45nm世代，ASML和尼康也曾双双成为Intel的光刻设备供应商，但在32nm
节点上Intel
首次应用了沉浸式光刻技术，只有尼康一家提供相关设备，如今ASML又要回来了。
此番ASML提供的光刻机为“NXT:1950i”，每台平均售价4000万欧元(5440万美元)，负
责40％的前道
(FEOL)光刻层；尼康的光刻机则是“S620D”，报价3000万美元，负责60％的后道(BEOL
)光刻层。
Intel的22nm工艺将有45个光刻层，其中55％需要进行沉浸式光刻。
在22nm工艺上，Intel会继续使用193n |
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a***f
发帖数: 150 | 36 光明日报 2002年5月30日
记者 刘志达
本报讯 清华大学微电子学研究所与荷兰ASML公司最近在京签署协议，双方决定在光
刻技术领域开展合作研究。有关专家认为，这一项目的开展，不但有利于保持双方在相关
科技领域的领先地位，也有利于进一步提高清华大学微电子学科的教学与科研水平，还可
以通过合作引进我国急需的光刻设备制造技术，促进我国IT产业的发展。
荷兰ASML公司是国际上著名的集成电路关键制造设备——光刻机的开发制造商，拥有
生产最先进的光刻设备和推动集成电路工艺不断向更微小尺寸发展的先进技术，在世界20
多家顶级的半导体芯片制造厂中占有一半以上的市场份额。
本次签署的合作项目，内容包括清华微电子所引进一台ASML制造的价值200万欧元的
先进的光刻机，双方结合清华大学已有的集成电路工艺条件及研究力量，形成先进的电子
技术研究与开发能力，联合开展微机械制造、生物芯片、Ⅲ－Ⅴ族半导体与锗硅器件及SO
C系统集成等热点技术研究，并对ASML光刻机在特殊领域的应用进行适用性技术探索。
这一合作项目的总经费约700多万欧元（约合6000万元人民币），将通过申请荷兰政
府开设的专项资助ORE |
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发帖数: 1 | 37 為了2017年量產7nm工藝，三星首次引入了EUV光刻機
三星、TSMC發力新一代工藝，不僅10nm工藝量產時間超過Intel，下下代的7nm節點上也
在摩拳擦掌，這兩家爭著在明年搶先量產，而三星更是第一家引入量產型EUV光刻機，
後者是製造7nm及5nm處理器的關鍵設備。
由於半導體工藝越來越複雜，Intel的「Tick-Tock」鐘擺戰略已經放緩，從2年升級一
次工藝變成了3年一次，10nm工藝已經延後到了2017年下半年。Intel腳步放慢，三星、
TSMC可算是得到超越的機會了，原本跟在Intel後面的它們發力新一代工藝，不僅10nm
工藝量產時間超過Intel，下下代的7nm節點上也在摩拳擦掌，這兩家爭著在明年搶先量
產，而三星更是第一家引入量產型EUV光刻機，後者是製造7nm及5nm處理器的關鍵設備。
先進半導體製造工藝越來越困難，原有的技術手段已經不適用，製造10nm以下的電晶體
需要極其複雜的工藝和設備，ASML的EUV光刻機就是其中的關鍵，EUV代表極紫外光，波
長193nm 13nm（波長越短，光刻解析度越高，電晶體就越小），可用於製造10nm及以下
工藝的晶片，但... 阅读全帖 |
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t******t
发帖数: 15246 | 38 新华网上海３月２１日电（记者 张建松）“工欲善其事，必先利其器。”半导体产业的发展离不开装备制造业的支撑。由于技术门槛高，长期以来，世界半导体装备制造的高端关键设备被国外几家大公司所垄断，特别是超高精度的刻蚀设备。
在国家重大科技专项的支持下，中微半导体设备有限公司成功研制生产６５纳米到４０纳米的介质刻蚀机，并成功打入国际市场，改变了世界关键刻蚀设备领域的竞争格局，有力提升了我国半导体产业的国际竞争力。
什么是６５纳米到４０纳米的介质刻蚀机？与老百姓的生活有什么关系呢？
中微半导体设备有限公司董事长兼首席执行官尹志尧博士形象地解释说：“如果将第一次工业革命比作‘机械代替人手’的革命，除了宏观材料、能源动力外，人类发明了机床、铣床、刨床等关键设备，打造了一个传统的‘宏观加工’工业；６０年前由美国硅谷开始的第二次工业革命就是‘电脑代替人脑’的革命，微观材料的制造和微观加工是这次革命的核心技术，我们开发的刻蚀设备就如同微观加工的机床、铣床、刨床。”
“和‘宏观加工’不同的是，‘微观加工’是在头发丝的几千分之一的尺度上实现的。一台等离子体刻蚀设备一年要加... 阅读全帖 |
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f***y
发帖数: 4447 | 39 国家光电实验室首次实现 9nm 线宽光刻
2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了
9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可
以突破国外的专利壁垒，直接达到 EUV 的加工水平。 |
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x****o
发帖数: 29677 | 40
这个要公正的来看，全球半导体产业布局，台积电和三星都入股欧洲的光刻设备生产商
，这样保证优先供货。反过来财团设备生产商以及设计商入股台积电和三星，相当于大
家瓜分产业布局，欧洲搞设备，美国主导设计，台湾韩国代工，日本提供材料。中国之
前只有封测这种低技术劳动密集产业。
现在中国加大半导体投入，预计2025年基本上各领域达到世界一流，台积电第一个死掉 |
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y**h
发帖数: 3093 | 41 能买其实是因为最新的光刻机主要就是和英特尔台积电三星一起开发的 |
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x******h
发帖数: 13678 | 42
华中科大那个9nm就是个噱头,根本不能实用，这个是介于duv和euv之间的一个白菜化工
业产品，至于以后的7nm和5nm芯片刻录技术还早得很
“ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下
使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只
。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很
多用户大喜过望。”
光电所走高分辨、大面积的技术路线，掌握了超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级
定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利，技术完全自主可
控，在超分辨成像光刻领域国际领先。 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 43 这个是刻蚀机，还差光刻机。有了光刻机，还差光源。有了光源，还差相应的胶。。。
。总之‘夕阳产业’论者不必惊慌。 |
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t******e
发帖数: 2504 | 44 中科院和大学是不可能搞这些耗资巨大的工程实行， 就那点钱那点人，对于产业也是
一摸黑， 发点文章申请专利也就算了，99%最后都是垃圾，要是属于1%的好东西，要在
西方，自然就有产业界来联系的，买了使用权，再花巨资实用化的。
林本坚80年代在IBM时提出的immersion光刻，到实用化，也用了近20年，在老式干法光
刻于90年代进入死角后，产业界对新方法投入才最终实用化， 目前台积电的7nm逻辑芯
片的制造还是用这个方法。
至于EUV光刻， 是花了近30年和巨资才终于实用化， 哦，是否实用， 还要看明年台积
电和三星的量产是否成功，虽然2家现在已经在risk production。 荷兰ASML公司为了
实用化EUV， 在2012年在财务上都顶不住了，拉了intel/三星/台积电三下游巨头一起
投资以分散开发风险。
中科院现在搞的这个东西，即使将来实用化， 也就是便宜一些，在精度上远远比不上
EUV， 可以肯定，不会吸引像ASML和日本Nicon那样的专业公司去投资的， 因为没前途
， 半导体制造业投资巨大，要投资新厂，是不可能以减少精度为代价去节省那点钱的。
可能老制程会考虑比较便... 阅读全帖 |
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t******e
发帖数: 2504 | 45 上海IMEE在做浸入式， 有90nm产品，45nm据说在研发之中。同时上海IMEE也是荷兰
ASML在华的售后技术服务点之一。
只不过国人觉得90nm不过瘾，要药效更大的，才能满足大国崛起之瘾。
其实要便宜的光刻，IMEE的产品就很便宜，如果嫌不够先进，日本那2家，Nikon 和
Canon也还行，前一阵子看Nikon的网站介绍，居然有号称5nm精度的机器了，而且价格
要便宜得多。 不过，下游产家显然不买账，现在买日本光刻的，已经很少了。
不过，Canon在面板设备方面的地位，大概相当于ASML在光刻方面的地位，Canon Tokki
的真空蒸镀设备， 要预定等位排号，三星/LG/京东方，几家在抢货。 |
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w********2
发帖数: 632 | 46 tosylate
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中科院和大学是不可能搞这些耗资巨大的工程实行， 就那点钱那点人，对于产业也是
一摸黑， 发点文章申请专利也就算了，99%最后都是垃圾，要是属于1%的好东西，要在
西方，自然就有产业界来联系的，买了使用权，再花巨资实用化的。
林本坚80年代在IBM时提出的immersion光刻，到实用化，也用了近20年，在老式干法光
刻于90年代进入死角后，产业界对新方法投入才最终实用化， 目前台积电的7nm逻辑芯
片的制造还是用这个方法。
至于EUV光刻， 是花了近30年和巨资才终于实用化， 哦，是否实用， 还要看明年台积
电和三星的量产是否成功，虽然2家现在已经在risk production。 荷兰ASML公司为了
实用化EUV， 在2012年在财务上都顶不住了，拉了intel/三星/台积电三下游巨头一起
投资以分散开发风险。
中科院现在搞的这个东西，即使将来实用化， 也就是便宜一些，在精度上远远比... 阅读全帖 |
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w********2
发帖数: 632 | 47 tosylate
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上海IMEE在做浸入式， 有90nm产品，45nm据说在研发之中。同时上海IMEE也是荷兰
ASML在华的售后技术服务点之一。
只不过国人觉得90nm不过瘾，要药效更大的，才能满足大国崛起之瘾。
其实要便宜的光刻，IMEE的产品就很便宜，如果嫌不够先进，日本那2家，Nikon 和
Canon也还行，前一阵子看Nikon的网站介绍，居然有号称5nm精度的机器了，而且价格
要便宜得多。 不过，下游产家显然不买账，现在买日本光刻的，已经很少了。
不过，Canon在面板设备方面的地位，大概相当于ASML在光刻方面的地位，Canon Tokki
的真空蒸镀设备， 要预定等位排号，三星/LG/京东方，几家在抢货。 |
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P**C
发帖数: 4333 | 48 这不是光刻机，和ASML是两码事。光刻机才是难点。 |
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l*****i
发帖数: 20533 | 49 这个刻蚀过程似乎的确是最难的。很多参数需要临时控制。任何变化都对对器件成型有
着直接影响。最后要保持稳定性不容易。
至于光刻机本身，定位精度上去，找到稳定的短波光源等等，这些技术都属于要么会要
么不会的那种。一旦突破，制造出来，本身的工艺并不是最让人头疼的。
要我说，整个流程剩下的难点，恐怕是相关化学品的制造。关键是要稳定，不能一批和
一批不一样。
记着就知道瞎吹，真是什么也不懂，光刻机才是核心难点，那才是定义几纳米技术的 |
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D*****i
发帖数: 8922 | 50 光刻胶不耐高温，所以产生等离子体的地方，光刻胶就被刻蚀了。人家不就是用等离子
体来刻蚀吗？ |
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