m**********1
发帖数: 876 | 1 有望今年底明年初量产，这个发展速度有点惊人啊，据说华为麒麟7nm准备找中芯代工
了 |
b*******t
发帖数: 4756 | |
b*******t
发帖数: 4756 | 3 目标是技术2年内追上台积电。
有希望，但困难也不小。 |
j**w
发帖数: 414 | 4 才帝战略布局的牛逼之处慢慢显现
撒币帝只能甘拜下风
【在 m**********1 的大作中提到】
: 有望今年底明年初量产，这个发展速度有点惊人啊，据说华为麒麟7nm准备找中芯代工
: 了
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g******t
发帖数: 18158 | 5 荷兰光刻机不是不卖给中国了吗？
【在 b*******t 的大作中提到】
: 没有，7nm的荷兰进口光刻机刚进厂安装。
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b*******t
发帖数: 4756 | 6 中国光刻机基本达到这水平了，所以就卖了。
但这次不是euv，再等中国自己的突破，然后才卖给中国。
但是，最先进技术的研究中国和荷兰等不相上下，中国略微领先，中国完全可能完胜，
就像5g一样，但没有产业化。
: 荷兰光刻机不是不卖给中国了吗？
【在 g******t 的大作中提到】
: 荷兰光刻机不是不卖给中国了吗？
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z*****n
发帖数: 36 | 7 刚说了不卖给中国了，你这个所谓7nm是哪里来的?
【在 b*******t 的大作中提到】
: 中国光刻机基本达到这水平了，所以就卖了。
: 但这次不是euv，再等中国自己的突破，然后才卖给中国。
: 但是，最先进技术的研究中国和荷兰等不相上下，中国略微领先，中国完全可能完胜，
: 就像5g一样，但没有产业化。
:
:
: 荷兰光刻机不是不卖给中国了吗？
:
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m********e
发帖数: 27 | 8 廊庑随便一个听说就是事实
【在 z*****n 的大作中提到】
: 刚说了不卖给中国了，你这个所谓7nm是哪里来的?
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s********n
发帖数: 1 | 9 无奈最优秀的人才那时候只把中心国际当跳板
而且中心国际福利待遇太差了，我当时面试了三个岗位，实在不喜欢台湾人的企业，太
抠门 |
y****1
发帖数: 671 | 10 根据中芯国际联席CEO梁孟松博士所示，N+1工艺和14nm相比，性能提升了20%，功耗降
低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。
N+1之后还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于 性能及成本，N+2显然
是面向高性能的，成本也会增加。
至于备受关注的EUV光刻机，梁孟松表示在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会使用
EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2工艺可能会有几层光罩使用EUV，之后的工艺才会大
规模转向EUV光刻工艺。
现在最关键的是中芯国际的7nm何时量产，最新消息称中芯国际的N+1 FinFET工艺已经
有客户导入了（不过没公布客户名单），今年Q4季度小规模生产 |
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z******4
发帖数: 4716 | 11 骗人的文章 是化学雕刻
然是面向高性能的，成本也会增加。
【在 y****1 的大作中提到】
: 根据中芯国际联席CEO梁孟松博士所示，N+1工艺和14nm相比，性能提升了20%，功耗降
: 低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。
: N+1之后还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于 性能及成本，N+2显然
: 是面向高性能的，成本也会增加。
: 至于备受关注的EUV光刻机，梁孟松表示在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会使用
: EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2工艺可能会有几层光罩使用EUV，之后的工艺才会大
: 规模转向EUV光刻工艺。
: 现在最关键的是中芯国际的7nm何时量产，最新消息称中芯国际的N+1 FinFET工艺已经
: 有客户导入了（不过没公布客户名单），今年Q4季度小规模生产
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z***t
发帖数: 10817 | |
a******1
发帖数: 131 | 13 用别的光刻机多次曝光就可以7nm，所以成本高。用荷兰的一次曝光就可以。但有没有
和好不好是2回事。 |
m*********n
发帖数: 931 | |
t********h
发帖数: 456 | 15 7nm 用現有的光刻機加多次曝光就能实现，台积电的第一代也是。
【在 b*******t 的大作中提到】
: 没有，7nm的荷兰进口光刻机刚进厂安装。
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t********h
发帖数: 456 | 16 N+1 相当于台积电的10 nm
N+2 相当于台积电的7nm 第一代
【在 y****1 的大作中提到】
: 根据中芯国际联席CEO梁孟松博士所示，N+1工艺和14nm相比，性能提升了20%，功耗降
: 低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。
: N+1之后还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于 性能及成本，N+2显然
: 是面向高性能的，成本也会增加。
: 至于备受关注的EUV光刻机，梁孟松表示在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会使用
: EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2工艺可能会有几层光罩使用EUV，之后的工艺才会大
: 规模转向EUV光刻工艺。
: 现在最关键的是中芯国际的7nm何时量产，最新消息称中芯国际的N+1 FinFET工艺已经
: 有客户导入了（不过没公布客户名单），今年Q4季度小规模生产
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t******n
发帖数: 320 | 17 别开玩笑了 广电所的光科技自细胞上台之后就一直停留在量产90nm制程 从来没有任何
break through
微电子所等一批研究机构时不时出来放卫星弯道超车宣称突破7nm制程 结果一看都是
surface plasma这种灌水玩具 根本不能用来做半导体量产
荷兰一看 得了 我都等你那么久了 结果还tmd停在90nm制程， 今年荷兰才被美帝怂恿
着不再续签光刻机出口禁令豁免 让中国自己慢慢玩儿90nm制程的
你看smic啥时候28nm量产开始用国产机 asml那边才会再解禁下一个node的 在这之前
都没戏
【在 b*******t 的大作中提到】
: 中国光刻机基本达到这水平了，所以就卖了。
: 但这次不是euv，再等中国自己的突破，然后才卖给中国。
: 但是，最先进技术的研究中国和荷兰等不相上下，中国略微领先，中国完全可能完胜，
: 就像5g一样，但没有产业化。
:
:
: 荷兰光刻机不是不卖给中国了吗？
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t******n
发帖数: 320 | 18 smic hr过来挖人的时候 给的工资基本是同行业的75% 还tmd在上海 。
【在 s********n 的大作中提到】
: 无奈最优秀的人才那时候只把中心国际当跳板
: 而且中心国际福利待遇太差了，我当时面试了三个岗位，实在不喜欢台湾人的企业，太
: 抠门
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t******n
发帖数: 320 | 19 不止是成本高 DUV做出来的7nm前端SAQP 和 后端 LELELE制程控制难度的挑战 需要工
程师积累的丰厚的经验 euv其实是指数级降低了制程复杂度
【在 a******1 的大作中提到】
: 用别的光刻机多次曝光就可以7nm，所以成本高。用荷兰的一次曝光就可以。但有没有
: 和好不好是2回事。
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