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Military版 - 芯片的最后就这这两样
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中微已开发出5纳米技术制造尖端芯片和制造原子弹,哪一个更难?
中微CEO吹牛造出5nm刻蚀机5nm刻蚀机有了,光雕机要加油
真的吗? 中微半导体设备公司将在今年年底敲定5nm刻蚀机光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破
Re: 中国半导体的困境!这篇讲的最全!光刻机领域中国接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破
芯片那么难做? 白人做得出EUV异常难产 不久前
还什么5nm的线宽ASML和AMAT如果禁运的话
看完这个,你还会不会无知高喊快造出“爱国芯”半导体生产设备和材料
看完这个文,你还会不会无知地高喊快快造出“爱国芯”[@裸嘢李 转]除了光刻机,其他都能造
相关话题的讨论汇总
话题: 光刻机话题: 芯片话题: 中微话题: 刻蚀话题: 5nm
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1 (共1页)
t******0
发帖数: 153
1
芯片的最后就这这两样。芯片设计? 那已经烂大街了。
蚀刻机:
中国5nm 的等离子刻蚀机已经有了
光刻机:
主要技术是激光+镜片
激光,中国是祖师爷。
问题出在镜片的透镜加工技术,相应的精细移动、定位、误差补偿之类的零部件
其他已经基本解决。
所以,中国处在快要突破的时间点。
就在这个时候,有消息说就是那个荷兰的公司,要和中国合作! 呵呵呵,给他们三个
冷笑。
a*****y
发帖数: 33185
2
哪家的5nm等离子刻蚀机?
f***y
发帖数: 4447
3
中微半导体

【在 a*****y 的大作中提到】
: 哪家的5nm等离子刻蚀机?
x****u
发帖数: 44466
4
光刻机技术含量比芯片低多了,但关键是不挣钱加上一个萝卜一个坑,造了也没人买
发展国产光刻机的唯一办法是让荷兰反华,对华实行光刻机禁运,但欧盟不干

【在 t******0 的大作中提到】
: 芯片的最后就这这两样。芯片设计? 那已经烂大街了。
: 蚀刻机:
: 中国5nm 的等离子刻蚀机已经有了
: 光刻机:
: 主要技术是激光+镜片
: 激光,中国是祖师爷。
: 问题出在镜片的透镜加工技术,相应的精细移动、定位、误差补偿之类的零部件
: 其他已经基本解决。
: 所以,中国处在快要突破的时间点。
: 就在这个时候,有消息说就是那个荷兰的公司,要和中国合作! 呵呵呵,给他们三个

t******0
发帖数: 153
5
荷兰的那位,一台要1亿美金,,,
据说洗镜片的液,好不容易搞出来了,,但装液体的桶,找不到,问题具体起来,处处
都是学问。

【在 x****u 的大作中提到】
: 光刻机技术含量比芯片低多了,但关键是不挣钱加上一个萝卜一个坑,造了也没人买
: 发展国产光刻机的唯一办法是让荷兰反华,对华实行光刻机禁运,但欧盟不干

G*******h
发帖数: 4091
6
还是嘴炮最厉害。
t******0
发帖数: 153
7
晚上Ghostouch去,俺绝对不阻拦。

【在 G*******h 的大作中提到】
: 还是嘴炮最厉害。
z*m
发帖数: 3227
8
这两块差距不是一般的大,还突破了,活见鬼了。有认识圈子里的人的可以去问一下,
这个跟行业有接触的都知道。五毛真不是一般的贱。
光刻机国内最靠前的叫北方华创,主流FAB基本没有用他家设备的。

【在 t******0 的大作中提到】
: 芯片的最后就这这两样。芯片设计? 那已经烂大街了。
: 蚀刻机:
: 中国5nm 的等离子刻蚀机已经有了
: 光刻机:
: 主要技术是激光+镜片
: 激光,中国是祖师爷。
: 问题出在镜片的透镜加工技术,相应的精细移动、定位、误差补偿之类的零部件
: 其他已经基本解决。
: 所以,中国处在快要突破的时间点。
: 就在这个时候,有消息说就是那个荷兰的公司,要和中国合作! 呵呵呵,给他们三个

x******g
发帖数: 33885
9
顶!

【在 t******0 的大作中提到】
: 芯片的最后就这这两样。芯片设计? 那已经烂大街了。
: 蚀刻机:
: 中国5nm 的等离子刻蚀机已经有了
: 光刻机:
: 主要技术是激光+镜片
: 激光,中国是祖师爷。
: 问题出在镜片的透镜加工技术,相应的精细移动、定位、误差补偿之类的零部件
: 其他已经基本解决。
: 所以,中国处在快要突破的时间点。
: 就在这个时候,有消息说就是那个荷兰的公司,要和中国合作! 呵呵呵,给他们三个

f***y
发帖数: 4447
10
北方华创不生产光刻机,美分

【在 z*m 的大作中提到】
: 这两块差距不是一般的大,还突破了,活见鬼了。有认识圈子里的人的可以去问一下,
: 这个跟行业有接触的都知道。五毛真不是一般的贱。
: 光刻机国内最靠前的叫北方华创,主流FAB基本没有用他家设备的。

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还什么5nm的线宽制造尖端芯片和制造原子弹,哪一个更难?
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看完这个文,你还会不会无知地高喊快快造出“爱国芯”[@裸嘢李 转]光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破
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a********i
发帖数: 1611
11
中微的等离子蚀刻机是光刻之前的一个工艺,相当于制版,然后才用光刻机通过制好的
版照射半导体材料生产芯片

【在 z*m 的大作中提到】
: 这两块差距不是一般的大,还突破了,活见鬼了。有认识圈子里的人的可以去问一下,
: 这个跟行业有接触的都知道。五毛真不是一般的贱。
: 光刻机国内最靠前的叫北方华创,主流FAB基本没有用他家设备的。

A****s
发帖数: 932
12
真TMD是无知者无畏呀。

【在 t******0 的大作中提到】
: 芯片的最后就这这两样。芯片设计? 那已经烂大街了。
: 蚀刻机:
: 中国5nm 的等离子刻蚀机已经有了
: 光刻机:
: 主要技术是激光+镜片
: 激光,中国是祖师爷。
: 问题出在镜片的透镜加工技术,相应的精细移动、定位、误差补偿之类的零部件
: 其他已经基本解决。
: 所以,中国处在快要突破的时间点。
: 就在这个时候,有消息说就是那个荷兰的公司,要和中国合作! 呵呵呵,给他们三个

y**h
发帖数: 3093
13
看来这次大大被打脸让五毛队伍也散了
只能招到中专生来写作科技贴了
t******0
发帖数: 153
14
哦,看来专家来了,洗了耳朵听
俺门外汉也了解了解。。。

【在 A****s 的大作中提到】
: 真TMD是无知者无畏呀。
p*a
发帖数: 3350
15
你这是非制造专业的人瞎拍脑门

【在 t******0 的大作中提到】
: 芯片的最后就这这两样。芯片设计? 那已经烂大街了。
: 蚀刻机:
: 中国5nm 的等离子刻蚀机已经有了
: 光刻机:
: 主要技术是激光+镜片
: 激光,中国是祖师爷。
: 问题出在镜片的透镜加工技术,相应的精细移动、定位、误差补偿之类的零部件
: 其他已经基本解决。
: 所以,中国处在快要突破的时间点。
: 就在这个时候,有消息说就是那个荷兰的公司,要和中国合作! 呵呵呵,给他们三个

r******t
发帖数: 8967
16
真是无知者无畏啊,知道laser interferometer是啥原理不?
厉害国连上面的螺丝都生产不了
e***d
发帖数: 8248
17
ASML的透镜能自己做么?
还是要买蔡司 / 尼康 / 佳能的透镜吧?

【在 t******0 的大作中提到】
: 芯片的最后就这这两样。芯片设计? 那已经烂大街了。
: 蚀刻机:
: 中国5nm 的等离子刻蚀机已经有了
: 光刻机:
: 主要技术是激光+镜片
: 激光,中国是祖师爷。
: 问题出在镜片的透镜加工技术,相应的精细移动、定位、误差补偿之类的零部件
: 其他已经基本解决。
: 所以,中国处在快要突破的时间点。
: 就在这个时候,有消息说就是那个荷兰的公司,要和中国合作! 呵呵呵,给他们三个

a*****y
发帖数: 33185
18
http://t.cj.sina.com.cn/articles/view/5752614292/156e1ed940200053r1?cre=tianyi&mod=pcpager_fintoutiao&loc=3&r=9&doct=0&rfunc=100&tj=none&tr=9
关于5nm刻蚀机,给大家简单介绍一下。在过去九年中,中微半导体先后承担并圆满完
成了65-45纳米、32-22纳米、22-14纳米共三项刻蚀机的研发和产业化任务(国家02重
大专项任务)。这使得国内刻蚀机技术基本与国外同行先进水平保持了同步。中微半导
体现在研发的是全球最先进的5纳米等离子(介质)刻蚀机。在整个芯片制造工艺过程
中,刻蚀工艺只是其中一环。也就是说,这仅仅是5nm工艺技术一个组成部分,且不是
最重要的组成部分。5nm工艺节点最重要的设备应该是光刻机。光刻机负责拍照片把集
成电路的影像印在硅晶元上,蚀刻机则负责把光刻机的影像腐蚀出来变成电路。因此,
网络上的许多报道是夸大了中微的成就。2017年4月,中微半导体发布了一则声明:“
正是中微的客户——国际一流的集成电路制造厂商,推动了芯片技术和生产一代又一代
的进步。中微作为设备公司,是向他们提供可加工先进器件的设备,协助他们实现新一
代器件的开发和生产。中微不可能脱离他们的5纳米技术开发,而独立地掌握5纳米技术
。”这是一个比较客观的声明。

【在 f***y 的大作中提到】
: 中微半导体
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除了光刻机,其他都能造芯片那么难做? 白人做得出
国产集成电路装备还什么5nm的线宽
规模大赚钱就是好公司?政府要推动最基础的大国重器看完这个,你还会不会无知高喊快造出“爱国芯”
有了光刻机就够了?——列数芯片制造还需要哪些设备看完这个文,你还会不会无知地高喊快快造出“爱国芯”[@裸嘢李 转]
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Re: 中国半导体的困境!这篇讲的最全!光刻机领域中国接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破
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