MEMS工作机会：1. Photoresist R&D, 2. MEMS electroplating - JobHunting版

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JobHunting版 - MEMS工作机会：1. Photoresist R&D, 2. MEMS electroplating

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b******e
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职位比较专：
职位1. polymer chemistry, photoresist R&D, particularly thick resists.
职位2. high-aspect-ratio metal and alloy plating, CMP.
不招F1, F1-based OPT, H-1B。不过不管有卡没卡，有兴趣的话，发个CV到jobboxusa@
gmail.com。请注明GC或citizen。

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