m******e
发帖数: 432 | 1 如果底板只是部分被纳米结构覆盖（覆盖率５０％，就是说纳米结构之间空隙较大），
那么该样品的roughness factor和覆盖率１００％的roughness factor不一样吧？The
roughness factor is defined by the actual surface area divided by the
projected surface area。the projected surface area是针对薄膜，还是单个晶体？
谢谢指教！ |
m******e
发帖数: 432 | 2 计算过roughness factor的同学显身帮顶一下吧？projected surface area指的是光照
到底板的surface area，还是被照到的晶体的总外表面积，还是晶体被光照到的最top
部分的面积。当然，晶体长在底板上.
跪求指点！
The
【在 m******e 的大作中提到】
: 如果底板只是部分被纳米结构覆盖（覆盖率５０％，就是说纳米结构之间空隙较大），
: 那么该样品的roughness factor和覆盖率１００％的roughness factor不一样吧？The
: roughness factor is defined by the actual surface area divided by the
: projected surface area。the projected surface area是针对薄膜，还是单个晶体？
: 谢谢指教！
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p*****s
发帖数: 15 | 3 the projected surface area refers to apparent surface area. for example, you
have a 1x1 sample, the projected surface area is 1. The roughness factor
for a sample of coverage of 100 % is twice that for a sample with coverage
of 50%. |
m******e
发帖数: 432 | 4 谢谢你的回复！我的问题是这个apparent surface area包括不包括侧面的面积。设想
一个１m＊１m＊１m的立方在一个底板上，光从正上方照射。apparent surface area是
１ square meter，还是５ square meters，还是６ square meters？
再次谢谢你的讨论
you
【在 p*****s 的大作中提到】
: the projected surface area refers to apparent surface area. for example, you
: have a 1x1 sample, the projected surface area is 1. The roughness factor
: for a sample of coverage of 100 % is twice that for a sample with coverage
: of 50%.
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m******e
发帖数: 432 | 5 简而言之：分母是不是被光照到的底板的表面积？谢谢讨论！
you
【在 p*****s 的大作中提到】
: the projected surface area refers to apparent surface area. for example, you
: have a 1x1 sample, the projected surface area is 1. The roughness factor
: for a sample of coverage of 100 % is twice that for a sample with coverage
: of 50%.
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F**D
发帖数: 6472 | 6 这个面积是不是光的入射角度的函数？
显然入射角度不一样的话，被照到的面积也不一样。
【在 m******e 的大作中提到】
: 简而言之：分母是不是被光照到的底板的表面积？谢谢讨论！
:
: you
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m******e
发帖数: 432 | 7 根据JPCC ２００９， １１３， ２０５２１－２０５２６的定义：surface roughness
factor (SRF, defined as the ratio of the total semiconductor surface area
to the nominal planar substrate area)。对于我的实验，光总能１００％覆盖
substrate，这样光的入射角度似乎没有关系。
IUPAC定义：roughness factor (rugosity) (of a surface)
The ratio: fr = Ar／Ag；where Ar is the real (true, actual) surface (
interface) area and Ag is the
geometric surface (interface) area.什么是geometric surface (interface) area
？愿闻其详！
【在 F**D 的大作中提到】
: 这个面积是不是光的入射角度的函数？
: 显然入射角度不一样的话，被照到的面积也不一样。
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m******e
发帖数: 432 | 8 Chem Mater 2010, ASAP paper: TiO2 Branched Nanostructure Electrodes
Synthesized by Seeding Method for Dye-Sensitized Solar Cells
J. Phys. Chem. B 2003, 107(31), 7759–7767
上面两篇文章的定义是：The roughness factor, defined as units of surface area
per micrometer of the film thickness这样roughness factor就是有单位的参数了
。我真是很困惑呀!
【在 F**D 的大作中提到】
: 这个面积是不是光的入射角度的函数？
: 显然入射角度不一样的话，被照到的面积也不一样。
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S*****n
发帖数: 6055 | 9 projected area，翻译成中文叫射影面积，定义为光垂直入射造成的影子面积
factor
coverage
【在 m******e 的大作中提到】
: 谢谢你的回复！我的问题是这个apparent surface area包括不包括侧面的面积。设想
: 一个１m＊１m＊１m的立方在一个底板上，光从正上方照射。apparent surface area是
: １ square meter，还是５ square meters，还是６ square meters？
: 再次谢谢你的讨论
:
: you
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S*****n
发帖数: 6055 | 10 这个定义，更接近于我们大学里机械制图课上学过的表面粗糙度的定义。
IUPAC的定义更直观一些，化学家更容易理解。
定义不同，得出的具体数值不同，但是如果比较一系列样品，不同的定义给出的相对大
小应该是一致的。
你可以采用任意文献上的定义，在你的文献中cite相应的定义即可。
顺便说一句，回顾了一下你在版上的发言，建议你多读点教材，少读点文献。。。
area
【在 m******e 的大作中提到】
: Chem Mater 2010, ASAP paper: TiO2 Branched Nanostructure Electrodes
: Synthesized by Seeding Method for Dye-Sensitized Solar Cells
: J. Phys. Chem. B 2003, 107(31), 7759–7767
: 上面两篇文章的定义是：The roughness factor, defined as units of surface area
: per micrometer of the film thickness这样roughness factor就是有单位的参数了
: 。我真是很困惑呀!
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m******e
发帖数: 432 | 11 谢谢你的建议！只是苦于不知道怎样找到合适的教材，有没有什么可以推荐的。
我也觉得把薄膜的厚度考虑进去更合理一些，特别是比较不同纳米晶体的形貌的
roughness factor对光化学电流的影响。谢谢各位的捧场！
【在 S*****n 的大作中提到】
: 这个定义，更接近于我们大学里机械制图课上学过的表面粗糙度的定义。
: IUPAC的定义更直观一些，化学家更容易理解。
: 定义不同，得出的具体数值不同，但是如果比较一系列样品，不同的定义给出的相对大
: 小应该是一致的。
: 你可以采用任意文献上的定义，在你的文献中cite相应的定义即可。
: 顺便说一句，回顾了一下你在版上的发言，建议你多读点教材，少读点文献。。。
:
: area
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y**e
发帖数: 1063 | 12 From an electrochemical view, the rough facotor is the ratio of the microsco
pic area over the geometric area.
microscopic area: which is computed by integrating the exposed surface over
all of its undulations, crevices, and asperities, even down to the atomic le
vel.
Geometric area: the cross-sectional area of the enclosure formed by projecti
ng the boundary of the electrode outward in parallel within the mean surface
normal.
Electrochemical Methods, Fundamentals and Applicaitons. Allen J Bard
【在 m******e 的大作中提到】
: 根据JPCC ２００９， １１３， ２０５２１－２０５２６的定义：surface roughness
: factor (SRF, defined as the ratio of the total semiconductor surface area
: to the nominal planar substrate area)。对于我的实验，光总能１００％覆盖
: substrate，这样光的入射角度似乎没有关系。
: IUPAC定义：roughness factor (rugosity) (of a surface)
: The ratio: fr = Ar／Ag；where Ar is the real (true, actual) surface (
: interface) area and Ag is the
: geometric surface (interface) area.什么是geometric surface (interface) area
: ？愿闻其详！
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m******e
发帖数: 432 | 13 谢谢！我自己有这本书，学了这门课，得了A。现在忘了，汗。。。
microsco
over
le
projecti
surface
Lar
【在 y**e 的大作中提到】
: From an electrochemical view, the rough facotor is the ratio of the microsco
: pic area over the geometric area.
: microscopic area: which is computed by integrating the exposed surface over
: all of its undulations, crevices, and asperities, even down to the atomic le
: vel.
: Geometric area: the cross-sectional area of the enclosure formed by projecti
: ng the boundary of the electrode outward in parallel within the mean surface
: normal.
: Electrochemical Methods, Fundamentals and Applicaitons. Allen J Bard
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