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Military2版
- 中国半导体光刻胶之痛在日本地震后暴露无遗
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A****C
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5月27日,多家陆媒披露,由于日本信越化学KrF光刻胶产能不足等原因,导致中国多家
晶圆厂KrF光刻胶供应紧张,部分晶圆厂KrF光刻胶甚至出现了断供。根据相关说明,光
刻胶(Photoresist,亦称光阻剂)仅占半导体材料行业的5%,却是芯片制造中最核心
最关键的工艺——光刻工艺的三大件之一。
事实上,2月下旬以来,光刻胶产能紧张的新闻就开始见诸报端。及至3月,甚至引发官
媒央视聚焦报导“光刻胶靠抢”。也就是在短短3个月内,中国半导体厂商进口光刻胶
时,历经了限购、加价都很难买到、到如今有钱买不到而面临断供危机。据报导,其主
要原因,即今年2月日本东北强震导致日商主导约八成市场的光刻胶供应告急,对中国
晶圆厂来说情形尤其严重。
目前全球前五大(日本4家、美国1家)光刻胶厂商占据了全球市场近九成的份额。光刻
胶的三大应用场景是PCB、面板和半导体。其中,半导体光刻胶现时四大主流是G线、I
线、KrF、ArF。在G∕I线光刻胶领域,日本企业和美国企业合计市占率超过85%。在高
端的KrF、ArF和最先进的EUV光刻胶核心技术,更是被日本和美国企业所包办。
目前中国光刻胶行业现况,自给率仅约10%,且主要集中在技术含量较低的PCB光刻胶领
域(占比94%),中、高端的LCD光刻胶(占比3%)和半导体光刻胶自给率(占比2%),
都是“卡脖子”的地方。
北京当局显然也意识到光刻胶是半导体国产化的一道大坎。2020年9月发改委等四部门
联合宣布扩大战略新兴产业投资,其中就包括光刻胶。2020年10月出炉的第14个五年计
划,聚焦“卡脖子”问题,其中就包括正在花费大量资金的光刻胶研发(不包括EUV)。
但是,中国光刻胶行业并非现在才开始推进的。公开报导显示,中国光刻胶领域领先的
5家主要国产厂商,成立时间都集中在1996年-2004年期间,且都位于北京、上海、深
圳等经济较发达、半导体产业布局的地区。
其次,中国光刻胶研究领先的10所大学在培育相关专业人才、产学合作。如2009年,由
北京科华微电子材料公司牵头,联合了清华大学、中科院微电子所、中科院化学所、北
师大、北京化工大学、中芯国际、北京化学试剂研究所及中电集团旗下研究所等国内一
流的高校与院所的高档光刻胶产学研联盟。
也就是说,中国光刻胶行业发展了也有20年,在中高端领域仍落后国际水准2至3代,相
关本土人才也仍未形成聚集效应,最先进的技术基本处于无人区,整体而言,不仅没有
实现国产替代,反而更加依赖日本光刻胶进口。
普遍认为,半导体卡脖子,从来都是一个以点带面的问题,从产品芯片,到前端的装备
制造,再到配套材料,循环起来,没完没了。典型例子,光刻工艺耗时占整个半导体芯
片制造的40%~60%。关于光刻工艺三大件一环卡一环,可以这么形容:没有“光刻胶”
,就是有荷兰“光刻机”也没有用,没有美国的“溅镀与蚀刻”技术,就是有光刻胶、
光刻机也没有用。
并且,无论中国半导体产业有多少痛、国产化有几道坎,说到底是源于人才荒的问题。
而中国科学家们的南橘北枳的原因,其实明白的人都知道。
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