c*s
发帖数: 2145 | 1 普林斯顿大学电机系的Michael Austin与所属的Stephen Chou研究小组﹐首度尝试以奈
米刻印蚀刻(Nanoimprint Lithography, NIL)的方式制成了高分子有机物薄膜晶体管。
在现今一片奈米科技热潮中﹐各学术领域的科学家们无不绞尽脑汁地研究奈米技术在其
相关领域的应用。在公元2000年由当年美国总统柯林顿所签署的“奈米科技推动方案白
皮书”中﹐因着其深远的发展潜力及影响力﹐更将奈米科技视为是新一代的工业革命。
本文将以半导体元件为例﹐介绍利用奈米尺度的刻印技术所制成的高分子(polymer)有机
物薄膜晶体管(organic thin-film transistor, OTFT) (有关OTFT的详细资料见参考来
源) 。
奈米刻印蚀刻技术(NIL)是由Stephen Chou(当时任职于University of Minnesota)于199
6年率先将压印模制(compression molding) 的技术﹐应用在半导体蚀刻的图案转印中而
逐渐受到重视。这种技术与刻印章十分类似﹕先以传统微蚀刻(光罩﹐电子束﹐聚焦离子
束等)技术将所要转印的图案 |
|
