d*******2
发帖数: 340 | 1 用尼康i12投影光刻，刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄，请问一般是什么原因？曝光显
影不足吗？先谢了！ |
s*****3
发帖数: 1673 | 2 positive tone or negative tone photoresist ?
A lot of parameters can affect the CD. Dose, focus offset, develop etc...
【在 d*******2 的大作中提到】
: 用尼康i12投影光刻，刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄，请问一般是什么原因？曝光显
: 影不足吗？先谢了！
|
a*******n
发帖数: 10 | 3 chemistry不合适，pressure太大，PR太厚，PR reflow。
暂时只能想到这几个原因 |
b********d
发帖数: 720 | 4 有很多可能的因素，PR pattern, etching process
你可以在做好PR pattern, etch之前先characterize一下你的PR pattern,看看和你的
预期值一样不
如果一样，再考虑etching process,比如是不是etching时间不够等
【在 d*******2 的大作中提到】
: 用尼康i12投影光刻，刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄，请问一般是什么原因？曝光显
: 影不足吗？先谢了！
|
r******t
发帖数: 8967 | 5 曝光显影不足还是最常见的。加长曝光时间？调整Developer的浓度和温度？
【在 d*******2 的大作中提到】
: 用尼康i12投影光刻，刻蚀出来的沟槽宽度比预期的窄，请问一般是什么原因？曝光显
: 影不足吗？先谢了！
|
