[转载] 中科院电工研究电子束缩小投影成像曝光系统达到最 - AC版

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AC版 - [转载] 中科院电工研究电子束缩小投影成像曝光系统达到最

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【以下文字转载自 Military 讨论区】
【原文由 Galvatron 所发表】
中科院电工研究电子束缩小投影成像曝光系统达到最细曝光图像线宽为78nm
由中科院电工研究所为主承担的“十五”创新工程重大项目“电子束缩小投影成像曝光
系统研究”（第一阶段）顺利通过专家验收。
电子束缩小投影成像曝光技术（简称EPL）是重要的下一代光刻技术，研制出的一套
电子束缩小投影成像曝光技术原理实验装置是世界上继美国、日本后的第三套同类装置
。按规定的技术指标，取得了突破性进展。达到最细曝光图像线宽为78nm。与国际同类
装置相比，达到了国际先进水平。
电子束缩小投影成像曝光技术是近年来发展起来的超微细加工技术，主要应用于微
电子产业等领域。近几年来，微电子技术的发展极大的推动了世界经济的发展，给人类
社会带来了空前的繁荣，并正在加速信息时代的步伐。美、日等发达国家为了在国际竞
争中抢到市场，在微电子研究领域投入了大量的人力、财力和物力，把握微电子领域的
制高点。
微电子产业的发展强烈地依赖于微电子设备的开发，“一代设备，一代工艺，一代
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